LRC｜为实验室与研发单位量身打造的多元制程卷对卷镀膜平台

为实验室与研发单位量身打造的卷对卷镀膜平台

卷对卷（Roll-to-Roll, R2R）真空镀膜技术已广泛应用于透明导电膜、铜箔基板、纺织装饰、卫星天线、机能性薄膜等多元领域。然而，从新材料研发、制程开发、到客户打样验证，研究单位与企业 R&D 中心常面临一个关键难题 —— 量产级设备的试样成本过高、灵活性不足，难以满足实验室探索性研究的需求。

大永真空 LRC 实验用卷对卷镀膜机（Lab R2R Coater）是专为实验室、学研单位、企业研发中心量身打造的小幅宽卷对卷镀膜平台。LRC 采用 500 mm 标准幅宽、短卷基材设计、多元制程切换能力，并可选配 DC、MF（中频）、HiPIMS（高功率脉冲）三种电源系统，让使用者能在单一设备上完成从基础研究、制程开发、到打样验证的完整 R&D 流程，大幅降低实验成本与时间。

500 mm幅宽 + 短卷设计｜降低试样成本、提升 R&D 效率

实验室研发最重要的两个资源是「材料」与「时间」 —— 使用大幅宽量产机进行小批量试样，不仅基材浪费严重，单次制程时间也不适合快速迭代的研究节奏。LRC 采用 500 mm 标准幅宽与 10~50 米短卷设计，单次试样的基材消耗量大幅降低，让研究人员可以快速进行多批次试样比对、制程参数最佳化、与材料配方验证。

LRC 的紧凑设计同时降低了设备占地空间需求，适合实验室、研究室等空间有限的环境设置。对于预算有限但需要完整卷对卷制程能力的学研单位，LRC 提供业界少见的「实验室友善」卷对卷设备方案。

DC / MF / HiPIMS 三种电源可选｜完整覆盖 R&D 制程需求

不同的镀膜应用需要不同的电源特性 —— DC 电源适合金属导电膜的高速沉积、MF 中频电源适合氧化物介电膜的反应性溅镀、HiPIMS 高功率脉冲电源则提供高离子化率以实现高致密、高附着力的特殊功能膜。LRC 在同一设备上提供这三种电源选配，让使用者可以在同一机台上完成各种不同类型的薄膜研究。

此一多元电源设计，使 LRC 成为材料研究、制程开发、技术评估的最佳通用平台。研究人员无需为了不同膜系的研究分别添购多台设备，大幅降低实验室的设备投资成本，同时加速跨领域的整合性研究。

3 组靶座｜平面与旋转靶弹性配置

LRC 配备 3 组靶座，可弹性配置平面靶与旋转靶。平面靶适合单一材料的精准沉积与膜厚控制；旋转靶则提供长寿命与均匀性优势，适合长时间连续溅镀。多靶座设计支持多层膜结构研究、合金共溅镀、反应性溅镀等多样化的实验需求。

配合大永独家的高精度张力控制系统，LRC 可稳定处理 6~50 μm 的超薄至中厚 film 基材，即使在快速制程切换的研究情境下，仍能维持基材走带稳定与膜厚均匀性。从基础研究到打样验证，LRC 为使用者提供完整的卷对卷镀膜实验能力。