大永真空拥有经验丰富的自主研发团队，同时紧密结合学研单位，通过技术交流合作，持续开发创新技术，成为先进薄膜制程领航者。从 PVD蒸镀 (Evaporation) 与 PECVD重合膜技术，到现今国内独有的高功率脉冲磁控溅镀（HiPIMS）与电感耦合电浆源辅助反应性溅镀技术及对应之设备研发制造、类钻碳涂层 (Diamond-like Carbon，DLC) 的制程上亦一再突破，除了 DLC a-C:H 涂层，也具备 DLC ta-C 涂层。不断勇于前进只为带领客户成为产业先驱者！