【什么是阴极电弧沉积？】

• 阴极电弧沉积原理

阴极电弧沉积（Cathodic Arc Deposition）的原理是：在靶材表面施加瞬间高电压，并透过引弧机构轻触靶材产生瞬间短路（arcing）以引发电流，再借由磁场控制电弧的运行轨迹；根据制程需求，可通入反应性气体以形成所需涂层。

• 阴极电弧沉积特色

• 在金属基材上具有良好的附着力：金属离子动能高，可深入表层，涂层与基材结合力较强。
• 涂层致密性高：结构致密，适用于严苛环境。
• 离子化率高：电浆几乎都是金属离子，沉积速度较快。
• 可做多元化合物涂层：TiAlN、TiCN、AlTiSiN等。