大永真空设备股份有限公司创立于 1968 年，专注于真空镀膜设备的研发、设计、制造与全球服务，致力于为精密光学、半导体及先进电子产业提供高效能镀膜解决方案。

深耕超过半世纪，大永真空以 PVD（Physical Vapor Deposition）与 PECVD（Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition）核心技术为基础，持续投入技术创新与产品研发。近年来，公司积极推动转型升级，由传统真空镀膜设备制造商，发展为聚焦精密光学与半导体应用的高阶设备供应商，协助客户掌握下一世代光学与电子技术商机。

目前大永真空建构完整的四大技术平台：光学蒸镀、光学溅镀、晶圆级镀膜及卷对卷镀膜，可满足从研发验证到量产制造的多元需求。

大永真空拥有自主研发团队、千级无尘光学实验室及完整研发测试平台，持续开发高精度、高稳定性与高良率的镀膜设备与制程技术，协助客户缩短产品开发周期，加速技术验证与量产导入，提升市场竞争力。

2024 年，大永真空正式取得 TSMC 供应商资格认证，展现公司在技术能力、品质管理与服务体系上的专业实力。凭借超过 50 年的产业经验与全球化服务能力，大永真空设备已稳定运行于亚洲、美洲及欧洲等市场，持续为全球高科技产业创造价值。
✓ TSMC 认证供应商 2024

展望未来，大永真空将持续聚焦 AI、AR/VR、车载光学、MicroLED、光通讯、硅光子、CPO 及先进封装等高成长领域，深化核心技术研发，携手全球客户共同推动下一世代科技创新，朝向世界级精密光学与半导体镀膜解决方案领导品牌迈进。

能力	简单	价值	创新
软硬件兼备的自主开发设备能力，与欧美先进镀膜技术同步。	设备耐用、环境适应性高，价格合理并且操作容易。	协助膜层开发，创造产品价值，开创产业升级的技术合作伙伴。	紧密串接产学资源，提供突破性的镀膜技术和解决方案。