【什么是蒸镀？】

• 蒸镀原理

蒸镀是物理气相沉积法（PVD）中的一种常见工艺，透过物理方式将固体材料转化为气态，并沉积在基板上形成薄膜。过程中，金属、氧化物或氟化物等材料会被加热至熔化或气化，并在真空环境下转换为气态分子或原子。

制程时，真空帮浦会将腔体抽至高真空范围（约 10⁻³ ~ 10⁻⁴ Pa），气态材料经加热获得足够动能后，飞向基板表面沉积并形成薄膜。

• 蒸镀特色

• 更高的沉积速率与材料使用效率：相较于反应性磁控溅镀，蒸镀具较高的镀率与材料利用率可有效降低整体制程成本。
• 制程简单，成本较低：设备构造较简单，投资与维护成本较低。
• 薄膜厚度监控容易，稳定性高：可搭配石英震荡监控法与穿透式光学监测系统精准控制薄膜厚度，确保制程再现性。
• 可沉积多种材料：金属膜（AI, Ti, Au）、氧化物（AI₂O₃, SiO₂, Ta₂O₅）等。
• 应用范围广泛：涵盖光学镀膜（如抗反射膜）、电子元件（如导电层、遮光膜）、与功能性包装材料（如延长保存期限之食品包装膜）等领域。