【什么是高功率脉冲磁控溅镀？】

• 高功率脉冲磁控溅镀原理

HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）是一种先进的物理气相沉积技术。 HiPIMS透过高功率脉冲产生器以数十微秒的低占空比（<10%）的瞬间输出产生瞬间高电流，由此产生kW/cm²等级的高功率密度。这种高能量脉冲激发可显著提高溅射过程中的电离化产率，使得沉积过程中的原子被高度离子化，并且在基板上形成非常致密结构的涂层。这项技术能有效改善涂层的物理性能，如奈米晶体结构、高涂层致密性、高硬度、优良耐磨性以及极低的表面粗糙度，进一步扩展了HiPIMS在高端应用中的使用潜力。

• 高功率脉冲磁控溅镀特色

• 高涂层致密性：能有效形成纳米晶或非晶结构，提升涂层的致密性与结构均匀性。
• 极低表面粗糙度：可生成光滑平整的涂层表面，有助于改善表面性能并降低摩擦与磨耗。
• 良好的基材相容性：具备高度制程弹性，仅需微调参数与设备配置，即可应用于塑料、陶瓷等多样性基材。
• 多元化涂层材料选择：可沉积含四元以上元素的复杂涂层，并支持各类特殊元素（如：钨、钽等）的应用，满足先进材料设计需求。