EWS｜为运动眼镜量身打造的高精密溅镀解决方案

为运动眼镜与视光镜片打造的高精密溅镀平台

运动眼镜（滑雪镜、自行车镜、太阳眼镜）与视光处方镜片是现代消费市场成长最快的光学产品类别之一。这类镜片普遍采用 PC、CR-39、Trivex 等树脂基材以追求轻量化与安全性，但同时也对镀膜制程提出独特挑战：基板温度敏感、镜片立体曲面复杂、终端使用环境严苛（高温、紫外线、汗水、油污），且消费者对视觉品质与耐用性的期待日益提高。

大永真空 EWS 运动眼镜溅镀机（Eyewear Sputter）是基于大永自主研发的 ARMS 高精密溅镀技术平台，针对运动眼镜与视光产业所优化的专用设备。EWS 整合了分离式活化反应溅镀架构、低温溅镀能力、公自转曲面治具设计、以及标配的抗指纹(AF)模块，实现「彩色镀膜 + 抗反射 + 抗指纹」一机完成的整合制程，为运动眼镜品牌与视光镜片厂提供稳定可靠的量产级镀膜解决方案。

分离式活化反应溅镀｜塑胶基材也能达到高致密膜质

传统反应性溅镀的「靶毒化（Target Poisoning）」问题，是长期困扰产业的技术挑战 —— 金属靶材表面被反应气体氧化后，镀率大幅下降、辉光放电不均匀、膜质劣化。EWS 采用大永自主研发的分离式活化反应溅镀（Activated Reactive Magnetron Sputtering）架构，将金属溅镀区与反应性电浆区有效隔离，从根本解决靶毒化问题。

透过腔体高速旋转设计，基板在金属区与反应区之间高速往返，实现金属层与氧化层的快速交替堆叠。即使在低温制程条件下，EWS 仍能在塑胶／PC 基材上沉积出高致密、高附着力的光学薄膜，通过镜片产业最严苛的耐磨、防雾、抗刮等可靠度测试，大幅优于传统蒸镀镜片的耐用表现。

低温制程 + ICP 电浆源｜完美保护温度敏感镜片基材

CR-39、Trivex 等视光树脂基材的玻璃转化温度（Tg）落在 80~100°C 区间，任何高温制程都会导致基材变形或光学特性劣化。EWS 将腔体制程温度控制在 80°C 以下，搭配大永自制的 ICP 感应耦合电浆源，在低温条件下仍能达成优异的气体解离与反应效率，确保膜层致密性与光学特性稳定一致。

低温 + ICP 的组合，使 EWS 能在不破坏镜片基材的前提下，沉积出与高温制程相当品质的光学薄膜。对于需要保持优异光学折射率、双折射性能、表面平整度的高阶视光与运动眼镜应用，EWS 提供业界领先的解决方案。

公自转曲面治具 + AF 模块｜一机完成立体镜片完整制程

运动眼镜与处方镜片普遍为立体曲面结构（球面、非球面、渐进多焦点），传统平面治具难以确保曲面镀膜的均匀性。EWS 采用公自转行星式治具设计，搭配大永独家的镜片曲率优化算法与客制化夹持结构，可确保各种曲率镜片在批量量产时的镀膜均匀性控制在 ±3.0% 以内。

EWS 标配抗指纹（AF）模块，可在同一腔体内完成「彩色镀膜／抗反射 → AF 抗指纹」的整合制程。基板无需在不同设备间转移，大幅缩短制程周期、降低污染风险、提升产品良率，是运动眼镜品牌与视光镜片厂最具竞争力的设备选择。