• 高效率连续式 R2R 真空镀膜系統

大永真空 R2R（Roll-to-Roll）真空镀膜系统，专为柔性基材的高效率连续制程而设计，适用于塑胶薄膜、金属箔材、纺织品与鞋材面料等各类卷对卷基材。设备可整合磁控溅射、电浆清洁、PECVD 及高能电浆辅助制程，兼具高速量产能力与优异膜层一致性，广泛应用于光电、柔性电子、新能源与机能性纺织产业。

• 2000 mm 大幅宽镀膜与高均匀度制程控制

大永真空DMRC 系列具备高达 2000 mm 的大幅宽卷绕镀膜能力，并导入德国先进电浆监控技术，可即时掌握电浆状态，使 2000 mm 全幅范围内的镀膜均匀度稳定控制于 ±5% 以下，有效确保量产品质一致性，解决传统大幅宽 R2R 制程中常见的边缘效应与批次差异问题。

• 高精度张力控制与多元柔性基材适应能力

在制程稳定度方面，大永真空的高精度张力控制系统可对应6 μm 至 50 μm 的超薄至中厚 film 基材，即使在高速运转与大幅宽条件下，仍能维持稳定走带与精准沉积，并可延伸应用于结构较为复杂的纺织品与鞋材面料，满足多样化柔性材料对制程控制的严苛需求。

• HiPIMS 高附着力镀膜技术，对应高阶功能性应用

针对高附着力、高可靠度与高界面品质的特殊应用需求，系统可选配高功率 HiPIMS（High Power Impulse Magnetron Sputtering）电源技术。透过高离子化率金属电浆，可显著提升膜层致密度、附着力与耐久性，特别适用于高应力、耐磨耗或需承受后段加工的功能性薄膜应用。

• 建立高阶材料量产的长期竞争优势

随着 5G、新能源车、可穿戴装置与机能性纺织市场持续成长，大永真空以 2000 mm 大幅宽平台 × 德国电浆即时监控 × HiPIMS 高阶溅镀技术 × 超薄膜张力控制能力，为客户打造具备长期量产稳定性、制程升级弹性与市场竞争力的 R2R 真空镀膜制造平台。

• 同一制程中完成有机与无机膜层，无须溶剂，环保无污染
• 制程超越传统大气涂布无法实现之功效
• 膜厚均匀可控制，实现超薄膜层
• 膜层高纯度低残杂，表面平滑低针孔
• 表面性能改质(防刮、高透光、亲/殊水等)
• 同时配备平面、旋转靶座，靶材型式可选择
• 允许多个镀膜源(金属、合金、介电材料)同时镀膜
• 分离式腔体可进行不同压力之各式溅镀或PECVD等镀膜方式

RFID、5G装置、印刷电路板（PCB）、电动车电子元件、触控萤幕、车载显示器、电子纸、偏光片、智慧玻璃、ITO薄膜、软性太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、水氧阻隔膜及生物试剂等。