• 连续式真空镀膜 R2R 技术应用于多种技术整合

真空 R2R 镀膜技术（Roll-to-Roll Vacuum Coating）是一种适用于柔性基材的高效连续镀膜工艺，能在高真空环境下将功能性薄膜沉积于各类卷对卷材料上，如塑胶膜、金属箔、纤维织物等。该技术不仅具备高速加工能力，还能确保镀层的均匀性与高致密性，使其在光学、电子与装饰应用领域具备极高竞争力。此外，R2R 镀膜可与多种技术整合，如磁控溅射、电浆清洁系统、PECVD 等，进一步提升薄膜的机能性与附着力。

• 提供高附着力、高纯度且低缺陷的膜层结构

大永真空深耕 R2R 镀膜设备研发，专注于提高镀膜效率与膜层品质。核心技术包括高精度张力控制系统及镀膜源系统，确保在不同基材上实现稳定、高效的沉积过程。透过精准的气体流量控制与电浆辅助技术等，我们的 R2R 设备能够提供高附着力、高纯度且低缺陷的膜层结构，适用于光电产业、太阳能及新能源等先进应用。

• DMRC满足轻薄、耐用、高机能性膜层需求

DMRC 卷绕式磁控溅镀机可广泛应用于多种产业领域，包括显示技术（OLED、MicroLED）、柔性电子（FPC、触控感测）、新能源（太阳能薄膜、电池隔离膜）等。我们的设备支持多种材料基板，如 PEN、PET、PI 及金属箔材，满足高端市场对轻薄、耐用、高机能性膜层的需求。随着 5G、新能源汽车与可穿戴设备市场的崛起，R2R 镀膜技术将成为未来材料制程的重要推动力，助力客户提升产品附加价值与市场竞争力。

• 同一制程中完成有机与无机膜层，无须溶剂，环保无污染
• 制程超越传统大气涂布无法实现之功效
• 膜厚均匀可控制，实现超薄膜层
• 膜层高纯度低残杂，表面平滑低针孔
• 表面性能改质(防刮、高透光、亲/殊水等)
• 同时配备平面、旋转靶座，靶材型式可选择
• 允许多个镀膜源(金属、合金、介电材料)同时镀膜
• 分离式腔体可进行不同压力之各式溅镀或PECVD等镀膜方式

RFID、5G装置、印刷电路板（PCB）、电动车电子元件、触控萤幕、车载显示器、电子纸、偏光片、智慧玻璃、ITO薄膜、软性太阳能电池、钙钛矿太阳能电池、水氧阻隔膜及生物试剂等。