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离子辅助光学镀膜设备

型号 : DMC
DYPS｜稳定量产导向的光学溅镀镀膜设备

DMC｜高效量产导向的电子束蒸镀光学设备

  • 为精密光学镀膜制程打造的经典解决方案

在光学镀膜领域中，电子束蒸镀（E-beam Evaporation）始终是实现高沉积速率与多样化膜系设计的基石。然而，面对现代光学应用对良率、产能效率以及膜厚精确度的严苛要求，设备的稳定性与技术整合能力成为决胜关键。

大永真空结合数十年积累的实践经验与深厚的技术研发能量，打造 DMC 电子束蒸镀光学设备（Dah Young Multi-Functional Coater）。这不仅是一台真空设备，更是整合了大永自研核心技术的完整工艺平台，专为涵盖装饰、光电至高精密光学的广泛应用所设计，提供高效、稳定且具备高度自主性的真空蒸镀解决方案。

  • 稳定蒸镀架构，确保薄膜沉积品质一致性

DMC 采用优化的高能电子束蒸镀结构设计，通过精准的束流控制与坩埚配置，使镀材能迅速达到理想蒸发温度，实现快速且均匀的镀膜效果。 

此设计不仅大幅提升沉积效率，更能确保大面积镀膜时的厚度均匀性与光学性能在不同批次间保持一致，特别适合对产能有高度要求的连续生产应用。

结合先进的真空抽气系统与腔体流场设计，DMC 能在制程中维持稳定的高真空环境，有效减少背景气体干扰，确保光学膜层具备优异的纯度与附着力。

  • 模块化腔体配置，适应多元产能与制程需求

DMC 系列具备高度的模块化设计弹性，根据不同的产能规划与厂房空间，提供业界最完整的标准化腔体尺寸选择（800、1100、1350、1550、1800、2050）。

无论是针对小批量多样化的研发需求，还是对应大尺寸基板或大规模量产的系统配置，DMC 皆能通过灵活的尺寸选择，协助客户在不同发展阶段实现最佳的设备投资效益与产能扩充规划。

通过模块化设计理念，DYPS 可依实际应用需求选配加热系统、离子辅助模块与制程监控元件，进一步提升膜层品质、制程弹性与整体设备适应性。

  • 自主研发关键核心，精准掌握复杂多层膜制程

为满足精密光学镀膜对「制程可控性」与「光谱准确度」的极致要求，DMC 设备全面导入大永真空自主研发的关键辅助系统，实现了软硬件的高度整合：

  1. 大永自研光学监控系统（Proprietary Optical Monitoring System）： DMC 搭载大永自行开发的光学监控技术，针对蒸镀制程特性进行深度优化。系统能即时且精准地检测薄膜沉积厚度的光学变化，通过独家算法与设备控制端的无缝串联，实现毫秒级的快速修正。确保每一层薄膜厚度皆能精准命中设计值，有效解决长制程中的膜厚漂移问题，大幅提升良率。
  2. 全系列自制高性能离子源（18 / 24 / 27 cm Ion Sources）： 针对不同腔体尺寸与制程需求，DMC 配置了大永自主开发的高性能离子源，提供18厘米、24厘米及27厘米等多种规格选择。
    • 最佳化匹配：自制离子源能与腔体几何进行最佳匹配，确保离子束流场的均匀覆盖。
    • 提升膜质：强大的离子辅助沉积（IAD）能力，显著提升薄膜的致密性与环境耐受力，使蒸镀薄膜具备优异的机械强度与环境稳定性，即便是低温制程也能获得卓越品质。
此一「核心技术自制」策略，不仅提升了设备的整体性能，更让大永能为客户提供更即时、更深入的技术支持与制程优化服务。
  • 为高效生产而生的电子束蒸镀平台

相较于传统拼装式设备，DMC 更注重于系统整合度、制程稳定性与维护便利性。

其设计理念以「从开发到量产的顺畅过渡」为核心，协助客户缩短调机时间、降低制程变异风险，并在实际生产环境中维持高稼动率与优异的良率表现。

DMC 特别适合应用于：

  1. 精密光学镜头与滤光片
  2. 各类反射膜与抗反射膜（AR Coating）
  3. 光电感测元件与工业镀膜
  4. 装饰性镀膜与消费性电子外观件
1. 业界最齐全的量产型腔体尺寸
  • 灵活配置：提供 800、1100、1350、1550、1800、2050 等六种标准化规格。
  • 全方位对应：从小批量的研发试样，到大尺寸基板或超大规模量产产线，皆有对应机型，满足不同阶段的扩产需求。

2. 深度整合的大永自研光学监控系统 (OMS)
  • 自主技术：搭载大永自行开发的光学监控软硬件，专为蒸镀制程优化。
  • 精准控制：具备毫秒级快速修正能力，确保多层膜制程中的每一层厚度精准命中设计值。
  • 提升良率：有效解决长制程中的膜厚漂移问题，大幅提升光谱吻合度与制程良率。

3. 全系列自制高性能离子源 (IAD)
  • 规格齐全：依腔体大小配置大永自制 18cm、24cm、27cm 离子源。
  • 最佳匹配：离子源与腔体几何完美匹配，确保流场均匀覆盖。
  • 优异膜质：强大的离子辅助沉积能力，显著提升薄膜致密性、机械强度与环境耐受力，低温制程亦能表现优异。
4. 稳定可靠的电子束蒸镀架构
  • 高效沉积：优化的高能电子束系统，实现快速且均匀的镀膜效果。
  • 优异膜质：强大的离子辅助沉积能力，显著提升薄膜致密性、机械强度与环境耐受力，低温制程亦能表现优异。
5. 为量产而生的系统整合
  • 软硬整合：自主开发的核心关键零组件（OMS、离子源）与设备控制系统无缝串联。
  • 高稼动率：设计着重于操作稳定性与维护便利性，协助客户缩短学习曲线与调机时间，实现高效稳定的生产产出。

DMC系列凭借其 800~2050mm 的完整腔体级距，以及高精度光控 (OMS)与强力离子源 (IAD)的整合优势，能广泛覆盖从半导体、LED 到高阶精密光学的多元应用：

1. 半导体与 LED 光电 (Semiconductor & LED Optoelectronics)

DMC的高指向性蒸镀特性与低温离子辅助能力，特别适用于化合物半导体、各类 LED 制程与微机电系统。

关键制程与应用：

  • LED / Mini & Micro LED
    • 高反射结构：制作分布式布拉格反射镜 (DBR) 或高反射金属镜 (Ag, Al)，显著提升覆晶 (Flip-chip) 或垂直式 LED 的出光效率 (LEE)。
    • 透明导电膜(TCO)：沉积高品质 ITO 薄膜，兼具高透光率与低片电阻，优化电流扩散性能。
    • 电极与欧姆接触：p/n 电极金属沉积 (如 Ni/Au, Ti/Pt/Au, Cr/Pt/Au)。

2. 精密光学产业 (Precision Optics)

针对对光谱特性有严格要求的成像与投影元件，DMC 的光学监控系统能确保复杂膜堆的精确度。

  • 应用产品：单眼/数码相机镜头、显微镜/望远镜镜片、投影机光机元件、激光光学元件。
  • 常见镀膜：宽频抗反射膜 (BBAR)、高反射膜 (HR)、分光镜 (Beamsplitter)、截止滤光片 (Cut-off Filter)。

3. 车载光学与感测 (Automotive Optics & LiDAR)

利用大永自制离子源 (IAD) 的低温致密成膜特性，通过车规级严苛的环境耐候测试 (高温高湿、耐磨耗)。

  • 应用产品：车载镜头、抬头显示器 (HUD) 反射镜、LiDAR (光达) 保护视窗、车灯光学透镜。
  • 常见镀膜：红外线穿透/截止滤光片 (IR Pass/Cut)、高耐久抗反射膜、冷光镜 (Cold Mirror)。

4. 消费性电子光学 (Consumer Electronics)

利用大尺寸腔体（1550/1800/2050）实现大规模量产，满足手机与穿戴装置的庞大产能需求。

  • 应用产品：车载镜头、抬头显示器 (HUD) 反射镜、LiDAR (光达) 保护视窗、车灯光学透镜。
  • 常见镀膜：红外线穿透/截止滤光片 (IR Pass/Cut)、高耐久抗反射膜、冷光镜 (Cold Mirror)。

5. 生医光电与感测 (Bio-medical & Sensing)

结合光学监控与离子源辅助，制作高信噪比、高稳定性的光学滤光片。

  • 应用产品：面部识别传感器 (3D Sensing)、环境光传感器、内视镜镜头、生医检测滤光片。
  • 常见镀膜：窄波段滤光片 (Narrow Bandpass Filter)、二向色镜 (Dichroic Mirror)。

6. 视光产业 (Eyewear)

针对树脂与塑胶基板，DMC 的低温离子辅助制程可避免基板变形，同时确保膜层硬度与附着力。

  • 应用产品：近视/远视眼镜片、太阳眼镜、运动护目镜 (雪镜/潜水镜)、安全防护眼镜。
  • 常见镀膜：抗蓝光膜、水银/彩衣镀膜 (Mirror Coating)、抗反射增透膜。

7. 装饰与功能性镀膜 (Decorative & Functional)

利用大腔体的高装载量，进行高效率的装饰性金属化制程，兼具金属质感与电讯号穿透性。

  • 应用产品：精品包装、化妆品容器、钟表零配件、3C 产品机壳。
  • 常见镀膜：NCVM (不导电真空金属化)、金属质感镀膜、渐变色镀膜。