电浆是人类近代科学的重大发现之一，也因电浆的发现，造就许多新兴科技的蓬勃的发展。电浆技术应用非常广泛，其中以镀膜科技应用最为显著，近几年有许多真空镀膜技术陆续被发展出来，并广泛应用于半导体、机械、生医科技等等产业上，而电浆正是镀膜技术的核心所在。藉由导入先进智慧电浆光谱控制技术、电浆量产设备开发及高密度电浆镀膜制程，以开发具有智慧监控之高密度电浆镀膜量产设备，突破以往单纯材料科技之研发预料系统的开发，利于实验及制程上有极大的辅助功能。

电浆监控PEM(Plasma Emission Monitor)是在实验及制程测试数据进行电浆参数资讯模型建立，可即时监测电浆密度、电子温度、离子通量与物种浓度等重要电浆参数。并结合镀膜设备的硬体设计，如帮浦种类、规格、抽气位置与供气的气导设计及其他制程条件要求等等，来辅助改善镀膜在待镀物的面积分布上的均匀性及 均质性。使每个镀膜控制区域内的成膜品质有最佳化的表现。

【产业应用】电浆设备(清洁、沉积、蚀刻)等。

【解决方案】卷绕式真空镀膜硬体设计加上电浆监控系统辅助，使得待镀物上有均匀及均质性的镀膜，可根据您的具体需求客制化来定制。

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