【产业讯息】推动台湾产业仪器设备自主化契机，仪科中心为半导体业准备的关键底牌

关键评论  | 2019/11/04

国际半导体产业协会SEMI预测未来3-5年的半导体产业有巨大的芯片需求和市场机会，但技术的挑战甚大，通过由不同技术，不同功能，不同材料间的异质整合创新及创造高附加价值之路终端产品。而台湾半导体市场达2.62兆台币，排名世界第三，今年年有机会重回第二，如何达成创新研发，将是台湾维持领先的重要决胜点。台积电在今年靠着七奈米制程的领先，挤进了2019年上半年第三大半导体制造商，但台湾在半导体相关产业的突破还有一个重要的替代没有解决：设备。半导体先进制程的设备领域长期被少数大厂垄断，某种光刻机龙头ASML以及物理气相沉积（PVD）设备龙头AMAT分别分开了细分市场上75.3％和84.9％的市占率，这代表台湾设备厂纵然为了更先进的技术，更庞大的市场占有率而进行投资，亦即庞大庞大的预算外流至国外厂商，而难以在台湾国内达成产业成长纵效，2017年，台湾半导体设备投资创造了超过5000亿需求，但国内自给率仅12％。


在这个环境下，仪科中心成为了台湾设备自产最重要的核心单位，由于拥有台湾目前唯一的大口径光学镜片技术，提供完整的光学系统客制服务平台，可协助产学研界理工也由此仪科中心有能力研发，设计最先进的高科技制造设备，包含先进封装制程用的半导体曝光机，电浆辅助原子层沉积系统，以及原子层蚀刻等相关设备，在国内先进制造设备的研发与制造上成为国内企业的最佳帮手。仪科中心陈峰志副主任表示，“仪科中心最主要的业务就是利用独有的设备与技术，协助厂商开发总市面上的“不存在”的设备，根据客户的需求设计符合需求，并同时协助台厂降低生产成本，拉高产品良率，细长拉抬在国际上的竞争力。」


仪科中心也达到预期参议员近年与国内企业在半导体，生医，航太等多个产业共同努力的成果，其中国内第一部自研自制原子层蚀刻（原子层蚀刻，ALE）设备原型也可以在当天首度进行曝光！ALE设备专注于研发氮化镓以及先进次世代半导体电力元件，作为制作微小结构“精准蚀刻”的最佳工具，可应用在半导体制造业的特殊先进制程步骤。自研自制设备这套ALE仪器可以可弹性调整零组件，维修成本低及带动内部相关产业上下游发展的全面优势。陈峰志表示，「仪科中心的核心技术就是光学，真空跟光机电系统集成，开发商伙伴和学界伙伴了解我们的核心技术，根据他们的需求去制造仪器。”例如国内与全球最大的芯片微影设备商艾司摩尔的商业案，就是仪科中心和台湾机械厂合作的成功案例，仪科中心透过光学的专业，协助机械厂打造先进机械，拿下艾斯摩尔的订单。“我相信如果可以找到民间厂商合作，这些厂商会优先去找民间厂商，但会来找我们就是因为民间厂商没有办法做到这种的研发，所以才需要靠仪科中心协助”，甚至台湾厂商其实并不愿意让开发商知道他们与仪科中心合作研发“他们都觉得这是一种KNOWHOW了”陈副主任笑说。


同时，仪科中心在原子层沉积（ALD）设备也有相关性能，透过仪科中心研究的12英寸硅晶片之电浆辅助原子层沉积（Plasma Enhanced ALD，PEALD）系统新技术，可以解决传统物理气相沉积（PVD）制作大曲率样品厚度不均问题，传统PVD技术难以在非光滑表面上完成均匀覆盖的薄膜，透过仪科中心的ALD新技术，可以完成100 ％阶梯覆盖率的光学薄膜，改善过往大面积大曲率样品的镀膜均匀性问题，并提高成像分辨度。2015年，仪科中心更与台积电等产学机构共同成立“原子层沉积联合实验室” ，应进一步提供半导体制造业ALD制程设备测试与开发验证的服务平台。因应产业在有限的设备预算上，仪科中心也可以做到多方面支持各种前瞻研究，并因应需求进行设备升级改良，创造台湾产业仪器设备自主化的能量与契机，并整合整体产业链，提高国内仪器设备产业的整体活力与动能。



引用来源：https：//www.thenewslens.com/article/126742