2011中国国际真空镀膜技术及靶材专题展览会
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主题 | 2011中国国际真空镀膜技术及靶材专题展览会 |
内容 | 上届展会于2010年6月7日-9日在上海光大会展中心成功举办,展览面积将近1万平方米,汇集了美国、日本、法国、英国、德国、意大利、瑞士、西班牙、芬兰、瑞典、新加坡、韩国、澳大利亚、中国台湾、香港及中国大陆的近三百家企业,共有来自18个国家与地区8910人次莅临参观。展会汇集全球领先的表面工程材料、设备与技术,展览期间有中国表面工程协会主办的“国际表面工程研讨会,研讨会报告嘉宾云集国内外权威专家,他们介绍表面工程领域先进技术、行业现状、发展趋势和先进管理经验,引起了业界强烈反响,参会代表近500人。85%的参展企业及参会代表表示:见到了许多潜在用户,又了解到了一些本行业先进产品及技术,还与同行进行了广泛的交流,参加本次展览及会议超出了预期效果。 |
讲师 | |
时间 | 2011/4/7~2011/4/9 |
地点 | 上海国际展览中心 |
课程大纲 |
镀膜设备:真空离子镀膜机、真空蒸发镀膜机、真空镀膜机、磁控溅射镀膜机、光学镀膜机、光纤镀膜、CVD设备、MOCVD设备、薄膜沉积设备、玻璃镀膜设备、蒸镀设备、离子束沉积设备、电子枪、离子源、蒸发沉积掩膜、晶振片、镀膜夹具、配件、仪器、镀膜测试与监控设备、膜厚监测仪、镀膜牢固度测试器等。 PVD涂层、TiN涂层、TiC涂层、TiCN涂层、ZrN涂层、CrN涂层、MoS2涂层、TiAlN涂层、TiAlCN涂层、TiN-AlN涂层、CNx涂层、DLC涂层、ta-C涂层等多元复合涂层。 镀膜材料:靶材产品、光学镀膜材料、金属膜料、陶瓷靶材、合金靶材、氧化物靶材、硼化物靶材、碳化物靶材、贵金属靶材、稀有金属靶材、钛,铌,锆,镍,钽,钨,钼,铪,铬银等单一金属靶材、高纯合金靶材、蒸发材料、溅射靶材、特种靶材等各类靶材。 镀膜材料设备:冷等静压机,热等静压机,高温钎焊炉,烧结炉,中频感应炉,电子束区熔炉,电子束熔炼炉,大面靶材钎焊炉,高温真空热压炉,轧机等其它表面工程设备。 |
备注 | 资料来源:http://www.expo-china.com/pages/exhi/201008/30853/index.shtml |
2011-04-07