【新设备发表】二阶段式反应溅射镀膜机

大永真空自主开发，将溅射制程之特性导入光学领域：

• 可有效改善反应性溅射制程因靶毒化而造成的低镀率及靶面放电破坏膜质。
• 制程具有高稳定性，并仍保有溅射制程之高薄膜品质与大面积高均匀性等优势。
• 克服非平面的基材限制，让具有「曲面的基材」也可制备出均匀的光学薄膜，极适合运用于自驾车产业之车载镜头。
• 应用范围包括Anti-reflection coatings(抗反射膜), Edge filters(截止滤光片), Minus filters(衰减滤光片), Beam splitter filters(分光滤光片), Decorative film(装饰膜), Reflector(反射镜)

大永真空将此溅射制程导入光学镀膜设备，一方面引进溅射的优点，并有效改善反应性溅射的缺点，进一步赋予设备「高镀率」、「高膜质」、「高稳定性」的性能，欢迎与我们联系了解更多！