利用材料表面起伏等表面结构及形状引起之反射率变化与波长相关特性
     此原理为使材料表面粗糙化，使反射光漫射模糊，而不会直接反射刺激眼睛，制作方法主要是利用酸蚀和研磨等方法，只要使表面光滑程度降低即可，制程简单成本低廉，但很明显的，虽然反射光被雾化了，但影像清晰度并没有提高，反而还因表面的不平整而降低了，此法为较老旧的抗反射膜制程的方法，实在不符合我们现在的需要。

利用半导体层中之能带间跃迁吸收
    (1) 利用半導體中干涉，實例有 Si/Mo , PbS/Al(1) 利用半导体中干涉，实例有 Si/Mo , PbS/Al
    (2) 在半导体上制备抗反射膜，实例有 SiO/Ge/Al , SiNx/Si/Ag/Cr2O3/SuS
    (3) 通过半导体的表面结构，实例有 Black Si , Black Ge，但这些抗反射效果通常并非针对可见光区，而是著眼于一些人眼不能视之特殊波长光线，通常是作为滤光镜等特殊设备使用。

利用光学薄膜中的薄膜干涉现象，达成抗反射效果
     此法为在基材上镀上单层或多层的透明金属或氧化物薄膜，由于光线通过不同介质会产生不同的现象，当不同薄膜层之反射光互相产生破坏性干涉时，反射光就会被抵销，如此就可达成抗反射的效果。