专 利 证 书 号 数：I861840

名　　　　　 称：电浆监控装置

[1]申请专利范围

1. 一种电浆监控装置，包括：至少一第一靶座，具有第一靶材，且提供第一电浆；至少一第二靶座，具有第二靶材，且提供第二电浆；第一准直镜组，对应于所述第一靶座设置，以侦测所述第一电浆的第一电浆光谱；第一流量控制器组，分别透过第一供气管组与第二供气管组提供气体给所述第一靶座与所述第二靶座；以及电浆放射监控器，根据所述第一电浆的所述第一电浆光谱调整所述第一流量控制器组所提供的所述气体的流量，其中，所述第一靶材与所述第二靶材相同，且准直镜组的总组数小于靶座的总数量，其中，所述第一靶座对应于独立设置的所述第一供气管组，且所述第二靶座对应于独立设置的所述第二供气管组，其中，所述供气管组的总组数等于所述靶座的所述总数量，所述供气管组的所述总组数大于所述准直镜组的所述总组数，且所述供气管组的所述总组数大于所述流量控制器组的总组数。
2. 如请求项1 所述的电浆监控装置，其中所述准直镜组的总组数等于1，且所述靶座的总数量大于或等于2。
3. 如请求项1 所述的电浆监控装置，其中所述流量控制器组的所述总组数小于所述靶座的所述总数量。
4. 如请求项3 所述的电浆监控装置，其中所述流量控制器组的总组数等于1，且所述靶座的总数量大于或等于2。
5. 如请求项1 所述的电浆监控装置，其中所述第一靶座的所述第一电浆的第一光强度实质上相同于所述第二靶座的所述第二电浆的第二光强度。
6. 如请求项1 所述的电浆监控装置，其中所述第一靶座的所述第一电浆的第一光强度与所述第二靶座的所述第二电浆的第二光强度的差异在10%内。
7. 如请求项1 所述的电浆监控装置，更包括：至少一第三靶座，具有第三靶材，且提供第三电浆；第二准直镜组，对应于所述第三靶座设置，以侦测所述第三靶座的所述第三电浆的第三光强度；以及第二流量控制器组，透过第三供气管组提供另一气体给所述第三靶座，其中，所述第一靶材与所述第三靶材不同，且准直镜组的总组数小于靶座的总数量。
8. 如请求项7 所述的电浆监控装置，其中所述准直镜组的总组数等于2，且所述靶座的总数量大于或等于3。
9. 如请求项7 所述的电浆监控装置，其中流量控制器组的总组数小于所述靶座的总数量。
10. 如请求项9 所述的电浆监控装置，其中所述流量控制器组的总组数等于2，且所述靶座的总数量大于或等于3。
    

• 图1 绘示为本发明一实施例的电浆监控装置的构造示意图。
• 图2 绘示为本发明另一实施例的电浆监控装置的构造示意图。
• 图3A 绘示为控制组的电浆监控装置的构造示意图。
• 图3B 绘示为实验组的电浆监控装置的构造示意图。
• 图4 为控制组将电浆的光强度预设在5000 光子数时的两个靶座的电浆光谱。
• 图5 为实验组将电浆的光强度预设在5000 光子数时的两个靶座的电浆光谱。
• 图6 为控制组将电浆的光强度预设在多种光子数时的两个靶座的电浆光谱。
• 图7 为实验组将电浆的光强度预设在多种光子数时的两个靶座的电浆光谱。

【图1】

【图2】

【图3】

【图4】

【图5】

【图6】

【图7】

【图8】