专 利 证 书 号 数：I766688

名　　　　　 称：光学多层膜及其用途

[1]申请专利范围

1. 一种光学多层膜，包括：一基材；一第一耦合层，设置于该基材上，包括：至少一第一介电材料层与至少一第二介电材料层，该第一介电材料层与该第二介电材料层互相堆叠成多层结构，其中该第一介电材料层的材料包括二氧化钛、五氧化二钽、五氧化二铌、氮化铝或氮氧化铝，且该该第二介电材料层的材料包括氟化镁、二氧化硅或三氧化二铝；一导电层，设置于该第一耦合层上；以及一第二耦合层，设置于该导电层上，其中该第一耦合层位于该基材与该导电层之间。
2. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该基材具有一第一表面以及与该第一表面相对的一第二表面，且该光学多层膜更包括：一抗反射膜，设置于该基材的该第一表面上，其中该第一耦合层、该导电层以及该第二耦合层设置于该基材的该第二表面上。
3. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该导电层的片电阻值为10Ω/□至250Ω/□。
4. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该导电层的片电阻值为10Ω/□至30Ω/□。。
5. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该导电层的厚度大于50 纳米且小于等于400 纳米。
6. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该光学多层膜在波长为400 纳米至700 纳米时的反射率为0.1%至5%。
7. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该光学多层膜在波长为400 纳米至700 纳米时的反射率为0.1%至1%。
8. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该基材的形式为非平面。
9. 如请求项8 所述的光学多层膜，其中该基材具有一第一表面以及与该第一表面相对的一第二表面，该基材的该第一表面为凸面，且该第二表面为凹面。
10. 如请求项1 所述的光学多层膜，其中该导电层的材料为透明导电材料。
11. 一种如请求项1 所述的光学多层膜的用途，其系用于抗反射、加热除雾以及加热除霜。
    

• 图1 绘示为本发明第一实施例的光学多层膜的剖面示意图。
• 图2 为本发明第一实施例的光学多层膜的制作方法的流程图。
• 图3 绘示为真空镀膜设备的上视示意图。
• 图4 绘示为本发明第二实施例的光学多层膜的剖面示意图。
• 图5A 绘示为本发明第三实施例的光学多层膜的剖面示意图。
• 图5B 为图5A 的第三实施例的光学多层膜在不同波长时的反射率及穿透率。
• 图6A 绘示为对照实施例的光学多层膜的剖面示意图。
• 图6B 为图6A 的对照实施例的光学多层膜在不同波长时的反射率及穿透率。

【圖1】

【圖2】

【圖3】

【圖4】

【圖5A】

【圖5B】

【圖6A】

【圖6B】