离子辅助光学蒸镀镀膜机
型号 :
DMC IAD
光学薄膜广泛应用在各种生活用品，藉由不同折射率材料的堆叠及设计，利用光学干涉现象使光产生各种效果，镀出不同功能的光学多层膜。
抗反射膜可使手机的拍照功能更清晰、眼镜上的重影减少； UV/IR截止滤光片能保护保护感测器与相关零组件的运作，提高影像稳定性并增加使用寿命，也可应用于屏下指纹解锁。光学镀膜可透过多层膜堆叠或是厚度增减，来达到不同的用途，因此可依需求设计不同功能的滤光片。
大永DMC-IAD系列光学设备，具有独特的光学监控系统，可于腔体内量测广波域光谱，计算真空中折射率，更易进行tooling值计算，快速进行膜层参数修正。并可利用导纳轨迹的演算法，容易做到膜厚误差补偿，可有效选择膜层切点，完成高品质薄膜。
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DMC 800 IAD |
DMC 1100 IAD |
DMC 1350 IAD |
DMC 1500 IAD |
| 适用基质 | 玻璃、高分子基质 | |||
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沉积技术 |
热阻舟蒸镀、电子枪蒸镀、离子源助镀 |
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镀层材料 |
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| 腔体尺寸 (mm) |
Ø800 |
Ø1100 |
Ø1350 |
Ø1500 |
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回转机构 |
行星式公自转、伞架式公转 | |||
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极限真空 (Torr) |
优於5 x 10-7 |
优於6 x 10-7 |
优於6 x 10-7 |
优於6 x 10-7 |
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抽气速率 |
從大气抽至1 x 10-5 Torr ≦15分钟 |
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电子枪数量 |
2 |
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石英监控系统 |
旋转6点式 |
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光学监控系统 |
反射/穿透式,350~1050 nm |
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加热系统 |
最高250℃，150℃(30分內到达) |
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操作介面 |
17吋触控工业电脑 |
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操作系統 |
IPC+PLC 自动、手动控制 |
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电力需求 (3ø 380V ) |
80 kVA | 80 kVA | 80 kVA |
80 kVA |
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冷却水需求 |
100 L/min |
100 L/min |
150 L/min |
180 L/min |
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压缩气体需求 |
6~8 kg/cm² |
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- IAD有效提高薄膜品质，增加光学镀膜应用领域。
- 可镀材料多元，基材种类限制少。
- 制程稳定性、再现性高。
- 自动化镀膜软体，设定方便，可直接载入光学设计档，并模拟完成光谱。
- 完整的制程参数与历史纪录，便利于使用者读取历史资料进行分析与优化。
- 双语介面、图像模式，易于操作。
- 独立安全回路电源、多组急停开关设置，提升人员操作安全性。
抗反射膜、截止濾光片、帶通濾光片…等各式濾光片
