• 离子辅助光学蒸镀镀膜机

离子辅助光学蒸镀镀膜机

型号 : DMC IAD

光学薄膜广泛应用在各种生活用品,藉由不同折射率材料的堆叠及设计,利用光学干涉现象使光产生各种效果,镀出不同功能的光学多层膜。

抗反射膜可使手机的拍照功能更清晰、眼镜上的重影减少; UV/IR截止滤光片能保护保护感测器与相关零组件的运作,提高影像稳定性并增加使用寿命,也可应用于屏下指纹解锁。光学镀膜可透过多层膜堆叠或是厚度增减,来达到不同的用途,因此可依需求设计不同功能的滤光片。

大永DMC-IAD系列光学设备,具有独特的光学监控系统,可于腔体内量测广波域光谱,计算真空中折射率,更易进行tooling值计算,快速进行膜层参数修正。并可利用导纳轨迹的演算法,容易做到膜厚误差补偿,可有效选择膜层切点,完成高品质薄膜。




DMC 800 IAD DMC 1100 IAD
DMC 1350 IAD
DMC 1500 IAD
适用基质 玻璃、高分子基质
沉积技术
热阻舟蒸镀、电子枪蒸镀、离子源助镀

镀层材料

  • 氧化物:TiO2, Al2O3, SiO2, ZnO, Ta2O5, HfO2, ITO
  • 金属膜:Cu, Ag, Au, Al, Ti, Cr, Pt, Pd
  • 氮化物:TiN, Si3N4
腔体尺寸 (mm) Ø800
Ø1100
Ø1350
Ø1500
回转机构
 行星式公自转、伞架式公转
极限真空 (Torr)
於5 x 10-7
於6 x 10-7
於6 x 10-7
於6 x 10-7
抽气速率
從大抽至1 x 10-5  Torr ≦15分
电子枪数量
2
石英监控系统
旋转6点式
光学监控系统
反射/穿透式,350~1050 nm
加热系统
最高250℃,150℃(30分內到达)
操作介面
17吋触控工业电脑
操作系統
IPC+PLC 自动、手动控制
电力需求 (3ø 380V )
80 kVA 80 kVA 80 kVA 80 kVA
冷却水需求 
100 L/min
100 L/min
150 L/min
180 L/min
压缩气体需求
6~8 kg/cm²

  • IAD有效提高薄膜品质,增加光学镀膜应用领域。
  • 可镀材料多元,基材种类限制少。
  • 制程稳定性、再现性高。
  • 自动化镀膜软体,设定方便,可直接载入光学设计档,并模拟完成光谱。
  • 完整的制程参数与历史纪录,便利于使用者读取历史资料进行分析与优化。
  • 双语介面、图像模式,易于操作。
  • 独立安全回路电源、多组急停开关设置,提升人员操作安全性。

抗反射膜、截止濾光片、帶通濾光片…等各式濾光片

   


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