蒸镀

透过真空帮浦使腔体达10-3~10-4 Pa的真空度,将欲蒸镀的材料如金属和酸化物,加热直至汽化升华、并使此气体附着于放置在附近的基材表面,附着形成一层薄膜。

蒸镀可大略分为物理蒸镀(PVD)与化学蒸镀(CVD)两种,其中物理气相沉积(PVD)是主要透过物理过程来沉积薄膜的技术,其适用范围广泛,几乎所有材质的基材都可以藉由物理气相沉积技术来镀制薄膜。
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光学蒸镀镀膜机

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