溅射光学

大永真空除蒸镀光学领域外，更开发出自有的活化反应溅射法设备，以此将溅射制程之特性导入光学镀膜设备，透过分离溅射与反应性气体间交互作用，可有效改善反应性溅射制程的缺点，除了可保有溅射制程之高薄膜品质与大面积均匀性等优点外，制程具有更高的稳定性及足以媲美于溅射靶材金属的高沉积速率。