高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)

HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)将是镀膜技术的主流,它结合了目前市场上常见涂层技术和方法的所有优点。

HIPIMS是一种以高功率脉冲电源进行磁控溅镀的技术,透过产生比传统直流溅镀模式要高上数十倍之瞬间脉冲电流,得到比直流溅镀要高上百倍至万倍的电子密度的高密度电浆,可在低基材温度下进行无孔隙、致密度高、结晶性佳的涂层沉积。在薄膜硬度、韧性展现优异性能,并且优异的沉积速率,提供最高的生产率。

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高功率脉冲磁控溅镀机

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卷绕式磁控溅镀机

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卷绕式纱线镀膜机

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