高功率脉冲磁控溅射(HiPIMS)

HiPIMS (High Power Impulse Magnetron Sputtering)将是镀膜技术的主流，它结合了目前市场上常见涂层技术和方法的所有优点。

HIPIMS是一种以高功率脉冲电源进行磁控溅镀的技术，透过产生比传统直流溅镀模式要高上数十倍之瞬间脉冲电流，得到比直流溅镀要高上百倍至万倍的电子密度的高密度电浆，可在低基材温度下进行无孔隙、致密度高、结晶性佳的涂层沉积。在薄膜硬度、韧性展现优异性能，并且优异的沉积速率，提供最高的生产率。