• 高功率脉冲磁控溅镀机

高功率脉冲磁控溅镀机

型号 : DYHC-HiPIMS

高功率脉冲磁控溅镀系统(HiPIMS ,High Power Impulse Magnetron Sputtering) 是一种以高功率脉冲电源进行磁控溅镀的技术,透过产生比传统直流溅镀模式要高上数十倍之瞬间脉冲电流,得到比直流溅镀要高上百倍至万倍的电子密度的高密度电浆,而此HIPIMS镀膜系统可有效提高被溅射粒子的离化率,并可在低基材温度下得到无孔隙、致密度高、结晶性佳的薄膜。

HiPIMS 技术的关键核心为电源供应器,大永真空独立HiPIMS电源供应器设计结合单一靶座。将直流电源供应器的电能累积至充电电压可达数百、数千伏特的脉冲模组电容中,再以电晶体控制放电的脉冲时间、脉冲频率,以产生高密度电浆于独立靶面,将靶面中毒的机率降至最低,增加靶材离化率与利用率,节省大量镀膜成本。

大永DYHC系列HiPIMS溅镀设备优秀的电源与腔体设计使其拥有高电浆密度(1018~19e-/m3)、高离化率(70~100%)的特点,使薄膜有良好的致密性、附着性、平整性及抗腐蚀的特性。较低的占空比(<5%),使制程温度大幅降低,基板的选择也更多,如软性基板PEN、PET等



DYHC 900-HiPIMS
适用基质
金属
涂层技术 HiPIMS 高功率脉冲磁控溅镀
涂层材料 依制程而定
涂层颜色 依制程而定
腔室材质 SUS304
操作系统
IPC&PLC
腔体直径 Ø900 mm
腔体高度 H900 mm
自转轴数
9 (依制程而定)
有效镀膜直径
Ø620 mm
有效镀膜高度
H520 mm
溅镀源数量
4~6
HiPIMS电源 2000 V/1000 A/10 kW
偏压电源 1000 V/50 A/20 kW
极限真空 (Torr)
x 10-6
制程周期
依制程而定
需求电源 (3ø 380V )
125 kW/50-60 Hz

  1. 全自动化控制(IPC & PLC),复合式多层膜镀膜系统。
  2. 可选用多种镀膜方式(阴极电弧、磁控溅镀、离子源、HiPIMS)满足各种膜层沉积需求。
  3. 低置式腔体搭配行星式公自转机构,适合各种尺寸工件大批量镀膜生产。
  4. 符合欧盟CE安全标准与技术规范(选配)。
  5. PVD涂层特性:
    • 高耐磨性
    • 高工作温度下维持高硬度
    • 高抗氧化性
    • 低摩擦系数
    • 抗沾粘
    • 耐刮伤
    • 各种表面颜色

     

光电、半导体、能源、机械加工、模具、生医、微钻针...等领域。


      

相关产品

阴极电弧类钻碳镀膜机

阴极电弧类钻碳镀膜机

阴极电弧装饰镀膜机

阴极电弧装饰镀膜机