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卷绕式中空阴极镀膜机

型号 : DMRC-HCD

特殊设计的溅镀源、HiPIMS溅镀技术或HCD (Hollow Cathode Deposition),产生极高的溅镀速率。大永与知名大学进行产学合作,配合前端学术研究,为开发具抗菌、导电、除臭...等各种功能性效果,带来革新生产技术、新应用,进而使生活更加便利。

设备规格

 适用基

 纱线(≒150D)、织布、PET

 沉积技术

 溅镀源

 镀层材料

 氧化物TiO2、ZrO2、Al2O3、SiO2、ZnO、ITO、PZT
 金属膜Al、Ti、Zr、Cr、Mg、Cu、Ag、Pt、Pd、W
 氮化物TiN、ZrN、CrN
 化物:TiB2

 涂层颜色

 金黄、银、玫瑰、紫、蓝、灰、黑、透明等颜色

 腔室材质

 SUS304

 操作系统

 触控式屏幕+PLC

 重量

 2.5

 腔体尺寸

 750(L) x 600(W) x 600(H)

 制程冰水轮尺寸

 Φ200*300mmL

 织布有效镀膜高度

 200mm

 溅镀电源

 高功率脉冲磁控溅镀(HiPIMS)

 溅镀功率(kW)

 10kW

 极限真空(Torr)

 5 x 10-4 Torr

 张力系统可控速度

 1~100m/min

 需求电源

 3220V,50/60Hz,56kVA


  1. 小型化、精巧的设计及配置,同时达到高品质与快速的产出需求。
  2. 小张力的绕卷系统,使用交流伺服马达,精准控制纱线的张力与绕卷速度。
  3. 专利申请绕线及导引设计,快速达到需求膜厚与高产出速率。
  4. 配备高功率脉冲电源(HiPIMS)系统或HCD (Hollow Cathode Deposition),使膜层达到高镀率及良好耐候特性。
  5. 触控工业电脑:可储存多样、完整的制程参数及历史纪录,便于使用者汇出历史资料及分析。

纱线/织布功能性膜层沉积:可使其具抗菌、导电、除臭...等效果


  
   

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